最先端の電子デバイス施設づくり

高性能の技術

世界最高水準のアウトガス制御技術

世界最高水準かつ低コストなクリーンルーム

建材や機器から発生し半導体製造などに悪影響を与える分子レベルの化学汚染物質(アウトガス)を制御する技術です。汚染物質の低発生材料の使用により建築及び設備部材から発生するアウトガスを大幅に低減します。また、汎用品又は汎用品にわずかに手を加えた物で構成することにより、低コストのクリーンルームを提供いたします。
当社は、業界に先駆けてこの手法を確立し、多くの実績があります。

  • ※1 特願平 10-326003
  • ※2 特願平 10-214382
  • ※3 特願平 8-174642
  • ※4 特願平 9-71201、特願 2000-305067、特願 2001-1684
  • ※5 特願平 8-523425、特願平 8-120058、特願 2001-589266、特願 2000-285125
  • ※6 特願平 8-85845
  • ※7 特願平 8-174643
  • ※8 特願平 8-174644
  • ※9 特願平 8-174642、特願平 9-15980
  • ※10 特願平 10-326003、特願 2001-44216、特願 2001-44217
  • ※11 特願平 9-535118、特願平 8-77559、特願 2000-116690
当社以外の会社が上記による施工をする場合は、ライセンス契約が必要です。特にリンとホウ素の出ない建築及び設備材料を使用してクリーンルームを構築することは特許侵害の恐れがあります。

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