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クリーンルーム用化学物質除去装置の開発

鹿毛 俊彦*1・若山 恵英*1・並木 哲*2

電子デバイス製造プロセスにおいて,ケミカルフィルタは化学汚染対策に必要不可欠である。
しかし,ケミカルフィルタの運用では,定期的な交換やメンテナンス時の送風停止などが問題となる。本研究では,フィルタを交換せず,製造装置を止めることなく連続的に,清浄空気を供給する化学物質除去装置を開発し,その化学物質除去性能の評価を行った。その結果,稼働から半年後において,化学物質除去効率の低下がなく,連続的に化学物質を95%以上除去することが確認できた。今後は,化学物質除去装置による清浄空気の局所クリーンブース,製造装置等への適用を考えている。

キーワード:  クリーンルーム,化学汚染,ケミカルフィルタ,清浄空気,連続運転

*1 技術センター 建築技術開発部 建築生産技術開発室
*2 技術センター 建築技術研究所 建築構工法研究室

Development of a Chemical Reduction Device for Clean Room

Toshihiko KAGE*1, Yoshihide WAKAYAMA*1 and Satoru NAMIKI*2

Problems associated with periodically stopping the ventilation system to exchange filters during maintenance. Although, chemical filters are necessary to prevent chemical contaminations during electronic device manufacturing, periodically stopping the ventilation system to exchange the filters can cause problems. In this study, we developed a chemical reduction device that continuously supplies pure air without the need to stop the ventilation system or the manufacturing equipment to exchange filters. We tested the device’s ability to remove chemical compounds over a period of six months. The results show that the device removed at least 95% of the chemical compounds with no decline in the removal ratio during the test period. We are considering using the chemical reduction device to supply pure air to partial clean rooms for electronic device manufacturing.

Keywords:  clean room, chemical contaminations, chemical filter, pure air, continuous operation

*1 Construction Technology Development Section, Building Technology Development Department, Technology Center
*2 Building System and Material Research Section, Building Engineering Research Institute, Technology Center